輝光放電質譜是一種分析方法，使用輝光放電源作為離子源與質譜儀連接進行。輝光放電質譜在許多學科中得到了重要的應用。由于其直接固體注射，它已成為分析無機固體材料中雜質的有力方法，尤其是高純度金屬、合金和其他材料中的雜質。
輝光放電質譜原理：輝光放電質譜儀由輝光放電離子源和質譜儀組成。輝光放電屬于低電壓放電。同時，樣品在GD源中的霧化和電離在兩個不同的區域進行，即陰極暗區near樣品表面和陽極附近的負輝光區域，這也大大降低了基體效應。GD電源的供電方式可分為直流輝光放電（DC-GD）、射頻輝光放電和脈沖輝光放電三種。其中，直流電源使用最為廣泛，另外兩種與質譜的結合仍處于實驗室階段，沒有商用儀器。
輝光放電質譜具有以下特點及功能：直接固態取樣、離子源電離能力強、高靈敏度和分辨率、測量過程穩定、具有良好的再現性和再現性、周期表中幾乎所有元素（C、O、H、N除外）都可以定性或定量分析，輝光放電質譜可以直接檢測無機粉末、涂層/基材和非導電材料，無需樣品制備，并提供各種元素的信息；
輝光放電質譜分析的應用：
1、高純度材料分析
高分辨率輝光放電
質譜分析具有較強的干擾去除能力，動態范圍寬，可實現恒定、痕量和超痕量分析。特別適用于高純度物質的分析。
2、深度分析
深入分析對研究薄層材料具有重要意義。
3、導線材料分析
直流質譜不能直接分析非導電材料。有兩種常用的分析非導電材料的方法：第二陰極法和混合法。第二陰極方法對第二陰極的材料有嚴格的要求。
